Seto 1.67 lensa photochromic shmc

1) Apakah salutan putaran?

Salutan Spin adalah prosedur yang digunakan untuk mendepositkan filem tipis seragam ke substrat rata. Biasanya sejumlah kecil bahan salutan digunakan di tengah substrat, yang sama ada berputar pada kelajuan rendah atau tidak berputar sama sekali. Substrat kemudian diputar pada kelajuan sehingga 10,000 rpm untuk menyebarkan bahan salutan oleh daya sentrifugal. Mesin yang digunakan untuk salutan putaran dipanggil coater spin, atau hanya pemutar.
Putaran diteruskan sementara bendalir berputar dari tepi substrat, sehingga ketebalan filem yang dikehendaki dicapai. Pelarut yang digunakan biasanya tidak menentu, dan pada masa yang sama menguap. Semakin tinggi kelajuan sudut berputar, semakin nipis filem itu. Ketebalan filem juga bergantung kepada kelikatan dan kepekatan penyelesaian, dan pelarut. Analisis teoretikal pelukis spin dilaksanakan oleh Emslie et al., Dan telah dilanjutkan oleh banyak penulis berikutnya (termasuk Wilson et al., Yang mengkaji kadar penyebaran salutan spin dan Danglad-Flores et al. Penerangan sejagat untuk meramalkan ketebalan filem yang disimpan).
Salutan spin digunakan secara meluas dalam mikrofabrikasi lapisan oksida berfungsi pada kaca atau substrat kristal tunggal menggunakan prekursor sol-gel, di mana ia boleh digunakan untuk membuat filem nipis seragam dengan ketebalan nanoscale. [6] Ia digunakan secara intensif dalam fotolitografi, untuk mendepositkan lapisan photoresist kira -kira 1 mikrometer tebal. Photoresist biasanya berputar pada 20 hingga 80 revolusi sesaat selama 30 hingga 60 saat. Ia juga digunakan secara meluas untuk fabrikasi struktur fotonik planar yang diperbuat daripada polimer.
Satu kelebihan untuk berputar salutan filem nipis adalah keseragaman ketebalan filem. Oleh kerana ketebalan diri, ketebalan tidak berubah lebih daripada 1%. Walau bagaimanapun, filem spin yang lebih tebal polimer dan photoresists boleh mengakibatkan manik kelebihan yang agak besar yang planarization mempunyai had fizikal.